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寶雞鈦靶廠家談各種鍍膜技術及應用
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寶雞鈦靶廠家談各種鍍膜技術及應用

發布時間 :2022-02-18 17:51:21 瀏覽次數 :
鍍膜方法真空蒸鍍濺射鍍離子鍍化學反應鍍
可鍍物質金屬金屬某些化合物金屬、合金、化合物、陶瓷、高分子物質金屬、合金、陶瓷、化合物
膜材蒸發方式真空蒸鍍真空濺射蒸鍍、濺射化學反應
基體加溫范圍℃30~200150~500150~800300~1100
沉積速率nm/min2500~7500010~1002500~50000遠大于PVD
界面附著強度一般較好
膜的純度取決于膜材及膜材支撐舟或坩堝的純度取決于靶材的純度和濺射氣體的純度取決于膜材、坩堝及反應氣體的純度取決于反應氣體
膜的性質膜層不大均勻高密度,針孔少,膜層交均勻高密度,較均勻,針孔少純度高,致密性好
對復雜表面的鍍敷能力只鍍基片的直射表面只鍍基片的直射表面繞射性好,能鍍所有表面,膜均勻可鍍復雜形狀的表面,沉積表面平滑
鍍膜方法蒸發法磁控濺射法電鍍法
方式干式干式濕式
優缺點可鍍基材廣泛可鍍基材范圍廣,在低溫能鍍多種合金膜物理性能好,但基材和鍍膜金屬有局限性
用途裝飾膜,光學膜,電學膜,磁性膜等裝飾膜,光學膜,電學膜,磁性膜等金屬和部分塑料的表面保護層和裝飾層
鍍膜原理蒸發離子轟擊靶材電解
狀態中性中性離子
粒子能量0.2eV(1200℃)0.1eV-10eV0.2eV
表面鍍膜前處理涂底涂層,在真空中脫氣涂底涂層,在真空中脫氣化學腐蝕
粒子穿透深度0,只在表面附著有一點程度的穿透化學腐蝕
處理過程離子——<0.1%100%
中性勵起電子——<10%——
熱中性粒子100%<90%——
鍍膜材料可選用金屬金屬,非金屬金屬
難與選用或不能選用蒸汽壓非常低的材料,化合物,合金易分解的化合物,蒸汽壓非常高的材料易氧化的材料,高熔點材料,非金屬易氧化的材料,高熔點材料,非金屬
可鍍基材金屬塑料玻璃等金屬塑料玻璃等金屬,部分材料
附著力不好不好-稍微好良好

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